ナノインプリントリソグラフィ(NiL)について

ナノインプリント技術

ナノインプリント技術(Nanoimprint Lithography)は、1995年に現プリンストン大学(当時ミネソタ大学)のStephen Y.Chou教授らが提唱した微細パターンの量産技術です。

原版(精密金型)を基板に押し当てることで微細加工を実現する技術で、従来の露光装置に対し光源やレンズなどが不要で、装置が簡単な為、低コストでナノオーダーのパターンが量産できると期待されています。

応用事例としては、下記の様なMEMS領域で実用化されつつあります。

  • マクロレンズや回折格子、光導波路等の光学部品
  • ハードディスクのパターンドメディア等の記録媒体
  • バイオチップ
  • 光や圧力センサー など
ナノインプリント イメージ