ナノインプリントリソグラフィ（NiL）について
ナノインプリント技術
ナノインプリント技術（Nanoimprint Lithography)は、1995年に現プリンストン大学（当時ミネソタ大学）のStephen Y.Chou教授らが提唱した微細パターンの量産技術です。
原版（精密金型）を基板に押し当てることで微細加工を実現する技術で、従来の露光装置に対し光源やレンズなどが不要で、装置が簡単な為、低コストでナノオーダーのパターンが量産できると期待されています。
応用事例としては、下記の様なMEMS領域で実用化されつつあります。
- マクロレンズや回折格子、光導波路等の光学部品
- ハードディスクのパターンドメディア等の記録媒体
- バイオチップ
- 光や圧力センサー など
